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一般和書
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書誌情報サマリ

書名

フォトポリマーの基礎と応用　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)

著者名 山岡亜夫／監修
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2003.03
請求記号 578/00113/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0234806743一般和書２階開架自然・工学在庫 

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書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

請求記号 578/00113/
書名 フォトポリマーの基礎と応用　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)
著者名 山岡亜夫／監修
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2003.03
ページ数 336p
大きさ 21cm
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー
シリーズ巻次 136
ISBN 4-88231-787-7
一般注記 初版の書名:実用高分子レジスト材料の新展開
分類 5784
一般件名 感光性樹脂
書誌種別 一般和書
タイトルコード 1009912084798

目次 第１編　フォトポリマーの科学（フォトポリマーの基礎
光機能材料を支えるフォトケミストリー　ほか）
第２編　レジスト材料の最新応用技術（金属エッチング用レジスト
フォトファブリケーション用レジスト　ほか）
第３編　ディスプレイとフォトポリマー（カラーフィルター
ＵＶ硬化樹脂の位相差フィルム（ＬＣＤ））
第４編　フォトポリマーの新展開（表面光反応と表面機能化
広がりゆく応用　ほか）
著者情報 山岡 亜夫
　千葉大学工学部画像工学科教授。現、千葉大学工学部情報画像工学科教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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