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一般和書
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蔵書情報

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書誌情報サマリ

書名

日本美術全集　2 　法隆寺と奈良の寺院

著者名 辻惟雄／編集委員 泉武夫／編集委員 山下裕二／編集委員
出版者 小学館
出版年月 2012.12
請求記号 708/00169/２

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0210782454一般和書２階開架文学大型本在庫 
2 中村2510014125一般和書一般開架　在庫 
3 瑞穂2910015813一般和書一般開架大型本在庫 
4 守山3110010935一般和書一般開架　在庫 

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書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

請求記号 708/00169/２
書名 日本美術全集　2 　法隆寺と奈良の寺院
著者名 辻惟雄／編集委員 　 泉武夫／編集委員 　 山下裕二／編集委員
出版者 小学館
出版年月 2012.12
ページ数 287p
大きさ 38cm
巻書名 法隆寺と奈良の寺院
ISBN 978-4-09-601102-7
一般注記 布装
分類 7087
一般件名 日本美術-図集 　 法隆寺 　 寺院-奈良県
書誌種別 一般和書
内容注記 年表:p278〜279 文献:p280
内容紹介 美術史や歴史学界をはじめ、日本文化に精通する専門家の叡智を結集し、日本美術の最新の研究成果を紹介する。2は、日本仏教の源である法隆寺の仏像や伽藍といった国宝20件を含む多数の写真を収載。
タイトルコード 1001210089030

要旨 微細化を阻む壁は三次元実装で突破。半導体製造工程がスッキリとわかる！
目次 半導体製造プロセスを理解する
前工程の概要
洗浄・乾燥ウェットプロセス
イオン注入・熱処理プロセス
リソグラフィプロセス
エッチングプロセス
成膜プロセス
平坦化（ＣＭＰ）プロセス
後工程プロセスの概要
後工程の最新動向
半導体プロセスの今後の動向
著者情報 佐藤 淳一
　京都大学大学院工学研究科修士課程修了。１９７８年、東京電気化学工業（株）（現ＴＤＫ）入社。１９８２年、ソニー（株）入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ（セリート）創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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