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一般和書
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ぞうしょじょうほう

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しょしじょうほうサマリ

本のだいめい

ルバイヤート　(ワイド版岩波文庫)

書いた人の名前 オマル・ハイヤーム／作 小川亮作／訳
しゅっぱんしゃ 岩波書店
しゅっぱんねんげつ 1993.04
本のきごう 929/00150/

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No. としょかん 本のばんごう 本のしゅるい 本のばしょ くわしいばしょ せいげん じょうたい
1 鶴舞0236696522一般和書２階書庫　在庫 

かんれんしりょう

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しょししょうさい

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本のきごう 929/00150/
本のだいめい ルバイヤート　(ワイド版岩波文庫)
書いた人の名前 オマル・ハイヤーム／作 　 小川亮作／訳
しゅっぱんしゃ 岩波書店
しゅっぱんねんげつ 1993.04
ページすう 173p
おおきさ 19cm
シリーズめい ワイド版岩波文庫
シリーズかんじ 95
ISBN 4-00-007095-9
ちゅうき 原書名:Ruba‘iyat
ぶんるい 92991
本のしゅるい 一般和書
タイトルコード 1009913044505

もくじ 第１章　薄膜作製技術の歴史と意義
第２章　計算化学による結晶成長制御手法
第３章　常圧プラズマＣＶＤ技術とその応用
第４章　ラダー電極を用いたＶＨＦプラズマ応用薄膜形成技術
第５章　触媒化学気相堆積法とその応用
第６章　コンビナトリアルテクノロジー―集積化薄膜技術による材料開発の革新
第７章　パルスパワー技術と応用
第８章　半導体薄膜の作製
第９章　ナノ構造磁性薄膜の作製とスピントロニクスへの応用
第１０章　強誘電体薄膜の作製とメモリ素子への応用
ちょしゃじょうほう 白木 靖寛
　（現）武蔵工業大学副学長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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