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一般和書
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書誌情報サマリ

書名

半導体製造プロセスと材料　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)

著者名 大見忠弘／監修
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2005.10
請求記号 5498/00073/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0234758522一般和書２階書庫　貸出中 

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書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

請求記号 5498/00073/
書名 半導体製造プロセスと材料　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)
著者名 大見忠弘／監修
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2005.10
ページ数 274p
大きさ 21cm
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー
シリーズ巻次 205
ISBN 4-88231-866-0
一般注記 欧文タイトル:Process and materials of semiconductor equipment　初版のタイトル:新しい半導体製造プロセスと材料
分類 5498
一般件名 半導体
書誌種別 一般和書
タイトルコード 1009915051978

目次 序論―半導体固有の製造技術創出：半導体技術はまさにこれから
半導体製造プロセスと材料
リソグラフィ技術
エッチング技術
ウルトラクリーンイオン注入技術
洗浄技術
低環境負荷型真空排気システム
マイクロ波励起高密度プラズマ直接酸化技術
次世代ＤＲＡＭ用ペロブスカイト誘電体キャパシター
電極・配線形成技術
絶縁膜形成技術
ＣＭＰ用研磨液（スラリー）
超高純度半導体ガス供給技術
著者情報 大見 忠弘
　東北大学未来科学技術共同研究センター教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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