感染拡大防止のため、本を読む前、読んだ後は手を洗いましょう。みなさまのご協力をお願いします。

検索結果書誌詳細

電子図書
ログインすると許諾を得た一部の
表紙画像をご覧になれます
  • 書誌の詳細です。 現在、この資料への予約は 0 件あります。

蔵書情報

この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。

所蔵数 0 在庫数 0 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み　シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 　第4版 　(図解入門)

著者名 佐藤淳一／著
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9
請求記号 5498/00194/

この資料に対する操作

カートに入れる を押すと この資料を 予約する候補として予約カートに追加します。

いますぐ予約する を押すと 認証後この資料をすぐに予約します。

この資料に対する操作

電子書籍を読むを押すと 電子図書館に移動しこの資料の電子書籍を読むことができます。

登録する本棚ログインすると、マイ本棚が利用できます。

資料情報

各蔵書資料に関する詳細情報です。

貸出可能数
1

関連資料

この資料に関連する資料を 同じ著者 出版年 分類 件名 受賞などの切り口でご紹介します。

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

請求記号 5498/00194/
書名 よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み　シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 　第4版 　(図解入門)
著者名 佐藤淳一／著
出版者 秀和システム
出版年月 2020.9
ページ数 255p
大きさ 21cm
シリーズ名 図解入門
シリーズ名 Visual Guide Book
ISBN 978-4-7980-6245-7
分類 5498
一般件名 半導体
書誌種別 一般和書
内容紹介 ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。
書誌・年譜・年表 文献:p247
タイトルコード 1002010040854



内容細目表：

前のページへ
ページの先頭へ トップページへ

本文はここまでです。

ページの終わりです。