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書誌情報サマリ
| 書名 |
よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み 製造装置の全体を俯瞰する 第2版 (図解入門)
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| 著者名 |
佐藤淳一/著
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| 出版者 |
秀和システム
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| 出版年月 |
2016.8 |
| 請求記号 |
5498/00178/ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
| 請求記号 |
5498/00178/ |
| 書名 |
よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み 製造装置の全体を俯瞰する 第2版 (図解入門) |
| 著者名 |
佐藤淳一/著
|
| 出版者 |
秀和システム
|
| 出版年月 |
2016.8 |
| ページ数 |
259p |
| 大きさ |
21cm |
| シリーズ名 |
図解入門 |
| シリーズ名 |
Visual Guide Book |
| ISBN |
978-4-7980-4726-3 |
| 分類 |
5498
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| 一般件名 |
半導体
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| 書誌種別 |
一般和書 |
| 内容紹介 |
洗浄・乾燥装置、イオン注入装置、熱処理装置など、半導体製造装置の構造・構成から検査・測定・解析装置までを、豊富なイラストを交え、現場に近い視点から解説する。 |
| 書誌・年譜・年表 |
文献:p259 |
| タイトルコード |
1001610044958 |
| 要旨 |
製造装置の全体を俯瞰する。あなたの知らない日本の実力がわかる。世界に冠たる日本の半導体製造装置メーカー、その技術力の神髄が手に取るようにわかる! |
| 目次 |
半導体製造装置を取り巻く現状 半導体製造装置をファブから理解する 洗浄・乾燥装置 イオン注入装置 熱処理装置 リングラフィー装置 エッチング装置 成膜装置 平坦化(CMP)装置 検査・測定・解析装置 後工程装置 |
| 著者情報 |
佐藤 淳一 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです) |
内容細目表:
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