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一般和書
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書誌情報サマリ

書名

ベーシック反応工学

著者名 太田口和久／著
出版者 化学同人
出版年月 2015.8
請求記号 571/00134/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0236717534一般和書２階開架自然・工学在庫 

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書誌詳細

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請求記号 571/00134/
書名 ベーシック反応工学
著者名 太田口和久／著
出版者 化学同人
出版年月 2015.8
ページ数 10,219p
大きさ 26cm
ISBN 978-4-7598-1806-2
分類 571
一般件名 化学工学 　 化学反応
書誌種別 一般和書
内容紹介 分子と分子、分子と組織の反応工学について、主に“濃度”“分圧”および“反応速度”に注目したテキスト。現象の動的過程モデリングに際し、因果性を追求できる知識体系提供の仕組みに留意し、例題・章末問題も掲載する。
書誌・年譜・年表 文献:p205〜206
タイトルコード 1001510042984

目次 第１章　単一の反応を取り扱おう
第２章　複数の反応を取り扱おう
第３章　反応器の成分操作とは
第４章　反応器の温度操作とは
第５章　滞留時間分布操作とは
第６章　気液接触反応を取り扱おう
第７章　固体原料反応の取扱い
第８章　固体触媒反応を取り扱おう
第９章　生物細胞反応の取扱い
著者情報 太田口 和久
　１９４９年東京都生まれ。１９７４年東京工業大学工学部化学工学科卒業。１９７８年東京工業大学大学院理工学研究科化学工学専攻博士後期課程修了。同年ミネソタ大学化学工学・材料科学科リサーチアソシエイト。１９８０年東京工業大学工学部化学工学科助手。１９８６年助教授。１９９５年教授を経て。２０１５年東京工業大学名誉教授および八戸工業大学特任教授、工学博士。専門はプロセスバイオテクノロジー、反応工学、プロセス設計、応用遺伝学、システム科学、工学教育(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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