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本のないよう

一般和書
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ぞうしょじょうほう

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しょしじょうほうサマリ

本のだいめい

ナノテクノロジーとレジスト材料　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)

書いた人の名前 山岡亜夫／監修
しゅっぱんしゃ シーエムシー出版
しゅっぱんねんげつ 2007.04
本のきごう 5497/00060/

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本のばしょ

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No. としょかん 本のばんごう 本のしゅるい 本のばしょ くわしいばしょ せいげん じょうたい
1 鶴舞0235014164一般和書２階開架自然・工学在庫 

かんれんしりょう

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リソグラフィー　ナノテクノロジー

しょししょうさい

この資料の書誌詳細情報です。

本のきごう 5497/00060/
本のだいめい ナノテクノロジーとレジスト材料　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)
書いた人の名前 山岡亜夫／監修
しゅっぱんしゃ シーエムシー出版
しゅっぱんねんげつ 2007.04
ページすう 253p
おおきさ 21cm
シリーズめい CMCテクニカルライブラリー
シリーズかんじ 256
ISBN 4-88231-921-7
ISBN 978-4-88231-921-4
ちゅうき 欧文タイトル:Nano Technology and Polymer Resist　初版のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
ぶんるい 5497
いっぱんけんめい リソグラフィー 　 ナノテクノロジー
本のしゅるい 一般和書
タイトルコード 1009917006561

もくじ 第１編　トップダウンテクノロジー（ナノテクノロジーの概要―広がりゆくナノテクノロジー
ギガビットからテラビットを目指したリソグラフィーと材料
Ｘ線リソグラフィ
超微細加工におけるリソグラフィプロセスの限界）
第２編　広がりゆく微細化技術（高密度化するプリント配線技術と感光性樹脂
微細化するスクリーン印刷
デジタル化と印刷製版
ヘテロ系記録材料と特徴）
第３編　新しいレジスト材料（分子協調材料によるナノパターニング
走査プローブ顕微鏡のナノリソグラフィーへの応用
近接場光
表面反応
自己組織化
光プロセスと応用
ナノインプリントへの挑戦と応用分野）
ちょしゃじょうほう 山岡 亞夫
　千葉大学工学部情報画像工学科教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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