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書誌情報サマリ

書名

フォトマスク　電子部品製造の基幹技術

著者名 田邉功／共著 竹花洋一／共著 法元盛久／共著
出版者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4
請求記号 5497/00068/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0235784691一般和書２階開架自然・工学在庫 

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書誌詳細

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請求記号 5497/00068/
書名 フォトマスク　電子部品製造の基幹技術
著者名 田邉功／共著 　 竹花洋一／共著 　 法元盛久／共著
出版者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4
ページ数 323p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-501-32820-7
一般注記 欧文タイトル:Photomask Technology　「入門フォトマスク技術」(工業調査会 2006年刊)の改題
分類 5497
一般件名 リソグラフィー
書誌種別 一般和書
内容紹介 マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
タイトルコード 1001110007924

目次 第１章　フォトマスク技術の基本
第２章　半導体用フォトマスク
第３章　電子部品用マスク
第４章　先端フォトマスク技術
第５章　ＮＧＬマスク技術
第６章　マスク産業の現状
第７章　リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
著者情報 田邉 功
　１９６１年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻（現情報画像工学科）卒業。１９６１‐８１年（株）日立製作所：カラーＴＶ用シャドウマスク、ＩＣ、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（武蔵工場マスク課長）。１９８１‐８９年ＨＯＹＡ（株）：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの事業化（八王子工場長）。１９８９‐９３年ＨＯＹＡ　Ｍｉｃｒｏ　Ｍａｓｋ　Ｉｎｃ．：ＬＳＩ用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発（ＥＶＰ＆ＣＴＯ）(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
竹花 洋一
　１９６９年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻（修士）卒業。１９６９‐９０年（株）日立製作所：計測装置の技術開発、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（デバイス開発センター主任技師）。１９９０‐９９年ＨＯＹＡ（株）八王子工場：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの技術開発、生産（八王子工場長）。１９９４‐２００１年ＰＭＪ実行委員。１９９９‐２００４年ＨＯＹＡ（株）Ｒ＆Ｄセンター：次世代マスクの技術開発（担当部長）(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
法元 盛久
　１９７４年早稲田大学理工学部物理学科卒業。１９７４‐２０００年（株）日立製作所：半導体用フォトマスクの技術開発、生産（マスクセンター長）。１９９４‐２００６年ＰＭＪ論文委員（２００５‐０６年論文委員長）。２０００‐０２年大日本印刷（株）電子デバイス研究所：半導体用フォトマスクの技術開発（主席研究員）。２００２年〜現在、大日本印刷（株）研究開発センター：次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発（プロジェクトリーダー）(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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