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一般和書
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書誌情報サマリ

書名

結び　生活に美と潤いを求めて

著者名 中沢弘／著 国方成一／画
出版者 舵社
出版年月 1987
請求記号 N590/00363/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0230673048一般和書２階書庫大型本在庫 

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書誌詳細

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請求記号 N590/00363/
書名 結び　生活に美と潤いを求めて
著者名 中沢弘／著 　 国方成一／画
出版者 舵社
出版年月 1987
ページ数 293p
大きさ 31cm
ISBN 4-8072-4015-3
一般注記 実技:角山安＃
分類 590
一般件名 結び
書誌種別 一般和書
タイトルコード 1009410013807

目次 第１章　フォトマスク技術の基本
第２章　半導体用フォトマスク
第３章　電子部品用マスク
第４章　先端フォトマスク技術
第５章　ＮＧＬマスク技術
第６章　マスク産業の現状
第７章　リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
著者情報 田邉 功
　１９６１年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻（現情報画像工学科）卒業。１９６１‐８１年（株）日立製作所：カラーＴＶ用シャドウマスク、ＩＣ、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（武蔵工場マスク課長）。１９８１‐８９年ＨＯＹＡ（株）：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの事業化（八王子工場長）。１９８９‐９３年ＨＯＹＡ　Ｍｉｃｒｏ　Ｍａｓｋ　Ｉｎｃ．：ＬＳＩ用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発（ＥＶＰ＆ＣＴＯ）(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
竹花 洋一
　１９６９年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻（修士）卒業。１９６９‐９０年（株）日立製作所：計測装置の技術開発、ＬＳＩ用フォトマスクの技術開発、生産（デバイス開発センター主任技師）。１９９０‐９９年ＨＯＹＡ（株）八王子工場：ＬＳＩ、ＦＰＤ用フォトマスクの技術開発、生産（八王子工場長）。１９９４‐２００１年ＰＭＪ実行委員。１９９９‐２００４年ＨＯＹＡ（株）Ｒ＆Ｄセンター：次世代マスクの技術開発（担当部長）(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
法元 盛久
　１９７４年早稲田大学理工学部物理学科卒業。１９７４‐２０００年（株）日立製作所：半導体用フォトマスクの技術開発、生産（マスクセンター長）。１９９４‐２００６年ＰＭＪ論文委員（２００５‐０６年論文委員長）。２０００‐０２年大日本印刷（株）電子デバイス研究所：半導体用フォトマスクの技術開発（主席研究員）。２００２年〜現在、大日本印刷（株）研究開発センター：次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発（プロジェクトリーダー）(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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