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書誌情報サマリ

書名

プラズマ／プロセスの原理　第2版

著者名 Michael A.Lieberman／著 Allan J.Lichtenberg／著 堀勝／監修
出版者 丸善
出版年月 2010.1
請求記号 427/00088/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0210725081一般和書２階開架自然・工学在庫 

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書誌詳細

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請求記号 427/00088/
書名 プラズマ／プロセスの原理　第2版
著者名 Michael A.Lieberman／著 　 Allan J.Lichtenberg／著 　 堀勝／監修
出版者 丸善
出版年月 2010.1
ページ数 612p
大きさ 26cm
ISBN 978-4-621-08223-2
一般注記 初版:EDリサーチ社 2001年刊
原書名 Principles of plasma discharges and materials processing 原著第2版の翻訳
分類 4276
一般件名 プラズマ物理学
書誌種別 一般和書
内容注記 文献:p591〜604
内容紹介 半導体製造装置において使用される弱電離、非平衡プラズマに焦点を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を基礎から応用まで原理的、解析的、系統的に解説。また、解析結果の適用方法を、多くの例題で提示。
タイトルコード 1000910092313



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