感染拡大防止のため、本を読む前、読んだ後は手を洗いましょう。みなさまのご協力をお願いします。

検索結果書誌詳細

一般和書
ログインすると許諾を得た一部の
表紙画像をご覧になれます
  • 書誌の詳細です。 現在、この資料への予約は 0 件あります。
  • ・予約するときは「予約カートに入れる」ボタンをクリックしてください。予約するには図書館窓口で発行したパスワードが必要です。
    ・「予約カートに入れる」ボタンが出ない書誌には予約できません。
    詳しくは「マイページについて－インターネットで予約するには」をご覧ください。

蔵書情報

この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。

所蔵数 1 在庫数 1 予約数 0

書誌情報サマリ

書名

薄膜の基本技術　第3版

著者名 金原粲／著
出版者 東京大学出版会
出版年月 2008.7
請求記号 5498/00100/

この資料に対する操作

カートに入れる を押すと この資料を 予約する候補として予約カートに追加します。

いますぐ予約する を押すと 認証後この資料をすぐに予約します。

登録する本棚ログインすると、マイ本棚が利用できます。

資料情報

各蔵書資料に関する詳細情報です。

No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0235247855一般和書２階開架自然・工学在庫 

関連資料

この資料に関連する資料を 同じ著者 出版年 分類 件名 受賞などの切り口でご紹介します。

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

請求記号 5498/00100/
書名 薄膜の基本技術　第3版
著者名 金原粲／著
出版者 東京大学出版会
出版年月 2008.7
ページ数 227p
大きさ 21cm
ISBN 978-4-13-062840-2
分類 5498
一般件名 薄膜
書誌種別 一般和書
内容紹介 現代の最先端技術を支える材料である「薄膜」。真空装置の基本から、真空蒸着法、スパッタリング法、膜厚測定法、関連技術まで、薄膜技術に関する基本知識を系統的に解説する。
タイトルコード 1000810082974

目次 １　真空装置の基本（真空の必要性
基本的構成　ほか）
２　真空蒸着法（真空蒸着と基板
気体に関する基本的な法則と公式　ほか）
３　スパッタリング法（放電とプラズマ
放電プラズマの基礎　ほか）
４　膜厚測定法（膜厚とは：その多様性
膜厚の分類　ほか）
５　関連技術（ガラスその他の基板洗浄
電気抵抗測定　ほか）


内容細目表：

前のページへ
ページの先頭へ トップページへ

本文はここまでです。

ページの終わりです。