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一般和書
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書誌情報サマリ

書名

エレクトロニクス薄膜技術　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)

著者名 白木靖寛／監修
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2008.5
請求記号 5498/00097/

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No. 所蔵館 資料番号 資料種別 配架場所 別置 帯出 状態
1 鶴舞0235212792一般和書２階開架自然・工学在庫 

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書誌詳細

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請求記号 5498/00097/
書名 エレクトロニクス薄膜技術　普及版 　(CMCテクニカルライブラリー)
著者名 白木靖寛／監修
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2008.5
ページ数 253p
大きさ 21cm
シリーズ名 CMCテクニカルライブラリー
シリーズ巻次 287
ISBN 978-4-88231-993-1
一般注記 欧文タイトル:Thin Film Technology for Electronics　初版のタイトル:次世代エレクトロニクス薄膜技術
分類 5498
一般件名 薄膜
書誌種別 一般和書
内容紹介 すでに生産現場に入っているものから、今後導入されると思われる技術、新しい材料開発に威力を発揮する技術まで、エレクトロニクスの発展を支える「薄膜技術」の基礎と応用を解説。薄膜作製の中心的な技術も材料別に記述する。
タイトルコード 1000810014816

目次 第１章　薄膜作製技術の歴史と意義
第２章　計算化学による結晶成長制御手法
第３章　常圧プラズマＣＶＤ技術とその応用
第４章　ラダー電極を用いたＶＨＦプラズマ応用薄膜形成技術
第５章　触媒化学気相堆積法とその応用
第６章　コンビナトリアルテクノロジー―集積化薄膜技術による材料開発の革新
第７章　パルスパワー技術と応用
第８章　半導体薄膜の作製
第９章　ナノ構造磁性薄膜の作製とスピントロニクスへの応用
第１０章　強誘電体薄膜の作製とメモリ素子への応用
著者情報 白木 靖寛
　（現）武蔵工業大学副学長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


内容細目表：

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